[发明专利]用于形成构图涂覆膜的方法和设备有效

专利信息
申请号: 200480040378.9 申请日: 2004-11-08
公开(公告)号: CN1902770A 公开(公告)日: 2007-01-24
发明(设计)人: 哈克·F·庞;丹尼斯·J·科伊尔;斯维特拉纳·罗戈杰维克 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种诸如光生伏打电池或OLED的电致发光器件。所述电致发光器件(100)包括至少一个电极(110)和设置在所述至少一个电极(110)上的电致发光层(120)。所述电致发光层(120)包括电致发光聚合物材料,电致发光层(120)具有设置在与所述电极(110)邻接的表面上的第一图案(130)。所述电致发光层(120)具有基本均匀的厚度。还公开了一种通过沿相切方向(210)溶解和擦拭而对这样的电致发光层(单层或多层)(120)进行均匀构图的设备和方法。
搜索关键词: 用于 形成 构图 涂覆膜 方法 设备
【主权项】:
1.一种电致发光器件(100),所述电致发光器件(100)包括:a)至少一个电极(110);以及b)设置在所述至少一个电极(110)上的电致发光层(120),其中,所述电致发光层(120)包括电致发光聚合物材料,并且其中,所述电致发光层(120)具有设置在与所述至少一个电极(110)邻接的表面上的第一图案(130),并且具有基本均匀的厚度。
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