[发明专利]抛光组合物和抛光方法无效
| 申请号： | 200480040377.4 | 申请日： | 2004-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN1902291A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 伊藤祐司;西冈绫子;鱼谷信夫 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 作为允许高速抛光并且同时防止盘形凹陷和侵蚀并维持金属膜的平直度的抛光组合物，本发明提供一种抛光组合物，它用于抛光在具有沟槽的基材上提供的金属膜以使金属膜填充所述沟槽，从而提供平面化表面，其中所述组合物包含水、在分子中具有C≥6碳原子烷基的磷酸酯和用于金属的蚀刻剂，并且具有5－11的pH。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光组合物，它用于抛光在具有沟槽的基材上提供的金属膜以使金属膜填充所述沟槽，从而提供平面化表面，其中所述组合物包含水、在分子中具有C≥6碳原子烷基的磷酸酯和用于金属的蚀刻剂，并且具有5-11的pH。
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