[发明专利]具有低吸水率的高度结构化的二氧化硅,其制备方法及其用途有效

专利信息
申请号: 200480040229.2 申请日: 2004-12-20
公开(公告)号: CN1902131A 公开(公告)日: 2007-01-24
发明(设计)人: A·德罗马德;Y·车瓦里尔;R·瓦勒罗;D·派逖特 申请(专利权)人: 罗狄亚化学公司
主分类号: C01B33/193 分类号: C01B33/193;C08K3/36
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张力更
地址: 法国布洛*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及高度结构化的沉淀二氧化硅,其在不同的糊状或固体基质或介质、弹性体或有机硅中具有低的吸水率和高的分散性,并涉及其制备方法。本发明也涉及所述二氧化硅的用途,例如用作基于弹性体的基质(透明或半透明,用于鞋底)中,有机硅基质(尤其是用于电缆的涂布)中的增强填料,用作不同组合物(食品组合物、化妆品组合物、药物组合物、制备油漆或纸的组合物、制备电池的多孔隔膜的组合物)中的填料和/或载体和/或赋形剂,或用作牙膏中的增稠剂。
搜索关键词: 具有 吸水率 高度 结构 二氧化硅 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
1、一种沉淀二氧化硅,其具有:●CTAB比表面为140-230m2/g,优选145-195m2/g,更优选145-185m2/g,尤其是150-185m2/g,特别是150-180m2/g,●DOP吸油率大于300ml/100g,优选大于310ml/100g,更优选315-450ml/100g,尤其是320-400ml/100g,特别是340-380ml/100g,●吸水率小于6%并且优选大于3%,非常特别地大于或等于4%且小于或等于5.8%,●pH值为3.5-7.5,优选4-7,尤其是4-6,●以硫酸钠表示的残余阴离子的量为小于或等于2%,优选小于或等于1.5%,尤其是小于或等于1%,特别地小于或等于0.5%,●平均颗粒尺寸或中值粒径小于30μm或者是30μm-20mm。
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