[发明专利]高活性、低卤素含量的聚异丁烯的制备方法有效
| 申请号： | 200480039595.6 | 申请日： | 2004-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1902237A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | H·P·拉斯;T·佩那;E·绍斯 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | C08F8/26 | 分类号： | C08F8/26;C08F10/10;C08F4/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明描述了一种制备具有低卤素含量的聚异丁烯的方法。本发明方法的特征在于异丁烯在包含卤代路易斯酸的催化剂存在下聚合，除去催化剂和/或使催化剂减活，和使所得的聚异丁烯与平均孔径为5－15的沸石接触。 | ||
| 搜索关键词： | 活性 卤素 含量 聚异丁烯 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备聚异丁烯的方法，所述聚异丁烯具有数均分子量为400-50000并且次甲基含量大于50摩尔％，其中a)异丁烯在包含卤代路易斯酸的催化剂存在下聚合，b)除去催化剂和/或使催化剂减活，和c)使所得聚异丁烯与平均孔径为5-15的沸石接触。
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