[发明专利]吸盘系统、使用该吸盘系统的光刻装置和器件制造方法无效
| 申请号： | 200480038919.4 | 申请日： | 2004-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1898611A | 公开（公告）日： | 2007-01-17 |
| 发明（设计）人： | P·史密特斯;P·J·C·H·斯穆尔德斯;K·J·J·M·扎尔;H·H·M·科西;J·J·奥坦斯;N·J·吉利森;J·斯塔里弗尔德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00;H02N13/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构图部件的吸盘系统(100)。所述吸盘系统包括用于支撑对象的吸盘(120)、用于支撑吸盘的框架(110)以及用于相对于框架支撑吸盘的吸盘支撑结构(114)。所述吸盘支撑结构包括至少一个弯曲元件(130)，该弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的，并耦合到吸盘和框架。 | ||
| 搜索关键词： | 吸盘 系统 使用 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：构造成将辐射光束投影到基底靶部的投影系统；构造成给所述辐射光束的截面赋予图案的构图部件；和吸盘系统，其包括构造成保持所述基底和所述构图部件之一的吸盘；构造成保持所述吸盘的框架；和吸盘支撑结构，其可在所述吸盘和所述框架之间操作，并构造成相对所述框架支撑所述吸盘，所述吸盘支撑结构包括连接在所述吸盘和所述框架之间的弯曲元件，所述弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的。
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