[发明专利]用于阳极缓冲层的聚合物、用于阳极缓冲层的涂覆溶液,和有机发光装置无效

专利信息
申请号: 200480036826.8 申请日: 2004-12-08
公开(公告)号: CN1890823A 公开(公告)日: 2007-01-03
发明(设计)人: 小山珠美;近藤邦夫 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: H01L51/30 分类号: H01L51/30;C08G61/12
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 林柏楠;刘金辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及:用于有机发光装置中的阳极缓冲层的聚合物,所述聚合物在1质量%的水溶液中包含pH值为3-7的自-掺杂导电聚合物,所述聚合物包含右式(1)和/或(2)代表的单体,其中M+代表氢离子、碱金属离子或季铵离子,k代表1或2,+k代表正电荷数目,和在所述芳环上的氢原子可被取代基代替;包含所述聚合物的阳极缓冲层涂覆溶液;和包括使用所述聚合物的阳极缓冲层的有机发光装置。本发明的聚合物可克服由于外来掺杂物而导致的发光层恶化的问题。
搜索关键词: 用于 阳极 缓冲 聚合物 溶液 有机 发光 装置
【主权项】:
1.用于有机发光装置中的阳极缓冲层的聚合物,其在1质量%的水溶液中包含pH值为3~7的自-掺杂导电聚合物。
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