[发明专利]辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件

摘要

辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的噁唑衍生物：(II)(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’－六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N－杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱－可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含茂金属。

主权项

1.辐射敏感组合物，其包含 (a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基 聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有 3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基 团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化 合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用： 异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数。 (b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米 的辐射，并且选自： (i)通式(I)的1，4-二氢吡啶衍生物 其中 R¹选自氢原子、-C(O)OR⁷、任选地被取代的烷基基团、任选地被取 代的芳基基团和任选地被取代的芳烷基基团， R²和R³独立地选自任选地被取代的烷基基团、任选地被取代的芳基 基团、CN和氢原子， R⁴和R⁵独立地选自-C(O)OR⁷、-C(O)R⁷、-C(O)NR⁸R⁹和CN， 或者R²和R⁴一同形成任选地被取代的苯基环或者5-到7-元碳环或 者杂环，其中单元 存在于与1，4-二氢吡啶环的位置5接近的碳环或者杂环，并且其中 所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基， 或者R²和R⁴以及R³和R⁵两者或者形成任选地被取代的苯基环，或者 形成5-到7-元碳环或者杂环，其中单元 存在于与二氢吡啶环的位置3和5接近的碳环或者杂环，并且其中 所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基， 或者配对R²/R⁴和R³/R⁵的一个形成5-到7-元碳环或者杂环，其中单 元 存在于与二氢吡啶环的位置5或者3接近的碳环或者杂环，并且其 中所述碳环或者杂环任选地包含另外的取代基，并且另一个配对形成 任选地被取代的苯基环， 或者R²和R¹或者R³和R¹形成5-到7-元杂环，其可以任选地包含一个 或多个取代基，并且除其与1，4-二氢吡啶环共用的氮原子之外，其任 选地包含另外的氮原子、-NR¹³基团、-S-或者-O-， R¹³选自氢原子、烷基基团、芳基基团和芳烷基基团， R⁶选自任选地被卤素原子或者-C(O)基团取代的烷基基团、任选地 被取代的芳基基团、任选地被取代的芳烷基基团、任选地被取代的杂 环基团和基团 其中 L是亚烷基或者亚芳基基团，并且R¹到R⁵如以上对于通式(I)的定 义， R⁷是氢原子、芳基基团、芳烷基基团或者烷基基团，其中烷基基团 和芳烷基基团的烷基单元任选地包含一个或多个C-C双键和/或C-C三 键，并且 R⁸和R⁹独立地选自氢原子、任选地被取代的烷基基团、任选地被取 代的芳基基团和任选地被取代的芳烷基基团，和 (ii)通式(II)的唑化合物 其中，每个R^a、R^b和R^c独立地选自卤素原子、任选地被取代的烷基 基团、任选地被取代的芳基基团，其还可以是稠合的，任选地被取代 的芳烷基基团、基团-NR’R”和基团-OR， 其中R’和R”独立地选自氢原子、烷基、芳基或者芳烷基基团， R是任选地被取代的烷基、芳基或者芳烷基基团或者氢原子，并 且 k、m和n独立地是0或者1到5的整数； (c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并 且选自2，2’，4，4’，5，5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的 三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至 少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环 化合物，以及上述化合物的混合物；和 (d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱-可溶性的粘合剂、着 色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无 机填料和热聚合抑制剂； 条件是，所述辐射敏感组合物不包含任何茂金属。