[发明专利]监控结构中缺陷的系统和方法无效
| 申请号： | 200480033333.9 | 申请日： | 2004-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN1879015A | 公开（公告）日： | 2006-12-13 |
| 发明（设计）人： | T·巴青格尔;A·迈;P·阿利森;C·莱斯特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01N27/20 | 分类号： | G01N27/20;G01B7/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨凯;陈景峻 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种用于监控结构中缺陷的系统和方法。系统(110)包括：电源(112)，用于向结构(114)的监控区(118)和参考(116)提供电流；测量电路，用于测量监控区(118)的至少两个触点(126，128)之间以及参考(116)的至少两个触点(122，124)之间的电位降；以及处理器(112)，适于确定监控区电位降对参考电位降之比，以表示结构(114)厚度的百分比变化。该方法包括以下步骤：向监控区(118)和参考(116)提供电流；测量监控区(118)和参考(116)上的第一电位降；以及确定表示结构(114)厚度百分比变化的比率。 | ||
| 搜索关键词： | 监控 结构 缺陷 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于监控结构(114)中缺陷的系统(110)，所述系统(110)包括：电源(202)，用于向所述结构(114)的监控区(118)和参考(116)提供电流；测量电路(206)，用于测量所述监控区(118)的至少两个触点(126，128)之间以及所述参考(116)的至少两个触点(122，124)之间的电位降；以及处理器(212)，适于确定所述监控区电位降对所述参考电位降之比，以表示所述结构(114)厚度的百分比变化。
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