[发明专利]可更换板的膨胀热等离子体装置和方法无效
| 申请号： | 200480032590.0 | 申请日： | 2004-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN1882712A | 公开（公告）日： | 2006-12-20 |
| 发明（设计）人： | 马克·谢普肯斯;查尔斯·D·亚科万格洛;托马斯·米巴赫 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴;巫肖南 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种沉积方法，该方法包括：在膨胀热等离子体发生器(102，202)的室内确定用于将涂料等离子体增强化学汽相沉积到基材上的目标工艺条件；发生器(102，202)包括阴极(106，206)、可更换栅板和具有同心节流孔的发生器(108，208)；和采用具有成形节流孔的另一个栅板更换该栅板以实现确定的目标工艺条件；和通过向等离子体发生器(102，202)提供等离子气体并使等离子气体在发生器(102，202)内的阴极(106，206)与发生器(108，208)之间的电弧内电离，在目标工艺条件下产生等离子体并且使气体作为等离子体在沉积室内膨胀至基材上。一种用于产生可控等离子体的沉积装置(100)，该装置包括被调整以保持在负压下的沉积室；沉积室内的制品支架；包括阴极(106，206)、单个栅板和发生器(108，208)和贯穿栅板的连通节流孔的膨胀热等离子体发生器(102，202)，所述节流孔的长度为1mm－小于20mm。 | ||
| 搜索关键词： | 更换 膨胀 等离子体 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在基材上沉积层的方法，该方法包括：在膨胀热等离子体发生器(102，202)的室内确定用于将涂料等离子体增强化学汽相沉积到基材上的目标工艺条件；发生器(102，202)包括阴极(106，206)、可更换栅板和具有同心节流孔的发生器(108，208)；和采用具有成形节流孔以实现确定的目标工艺条件的另一个栅板更换该栅板；和通过向等离子体发生器(102，202)提供等离子气体并使等离子气体在发生器(102，202)内的阴极(106，206)与发生器(108，208)之间的电弧内电离，在目标工艺条件下产生等离子体，并且使该气体作为等离子体在沉积室内膨胀至基材上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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