[发明专利]用于形成光学图像的方法和设备无效

专利信息
申请号: 200480031597.0 申请日: 2004-10-20
公开(公告)号: CN1871552A 公开(公告)日: 2006-11-29
发明(设计)人: R·A·M·蒂默曼斯;J·H·A·范德里德特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 程天正;陈景峻
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 在用于在辐射敏感层(6)中形成图像并且包括光阀(18-22)的阵列(16)和相应的会聚元件(46)的阵列(40)的设备中,利用检测模块监控这些阵列形成的辐射光点(204)的位置并且确定其位置,该检测模块设置在光点平面之下。该模块被提供了具有狭缝对(186、188)的狭缝板(182),还设有位置编码器(190、192、194、196),并且支撑会聚元件的板设有跟踪配置(171、173、175、177)和对准标记(198)。
搜索关键词: 用于 形成 光学 图像 方法 设备
【主权项】:
1.一种用于在辐射敏感层中形成光学图像的设备,该设备包括:-用于提供曝光辐射光束的辐射源;-用于将辐射敏感层相对于辐射光束定位的定位装置;-可单独控制的光阀阵列,设置在辐射源与辐射敏感层的位置之间,以及-二维会聚元件阵列,设置在光阀阵列与衬底支架之间的会聚盘上,使得每个会聚元件对应于一个不同的光阀,并且用于将来自相应光阀的曝光光束辐射会聚为辐射敏感层中的光点区域,其特征在于:监控装置,用于单独监控由会聚元件形成的光点和/或确定这些光点相对于辐射敏感层的位置,该装置设置在会聚元件阵列的下游,并且利用曝光光束辐射。
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