[发明专利]用于制造气体阻挡层的组合物

摘要

用于制造气体阻挡层的有机硅烷基组合物，其包含(i)至少一种有机烷氧基硅烷，其有机官能度显示至少一个不饱和烃基，(ii)至少一种氨基烷基烷氧基硅烷，(iii)至少一种多元醇，(iv)任选地，另一种烷氧基硅烷或烷氧基硅氧烷，和(v)任选地，至少一种纳米或微米级半金属氧化物或金属氧化物，半金属氧化物氢氧化物或金属氧化物氢氧化物，或半金属氢氧化物或金属氢氧化物，和/或(vi)至少一种由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)构成的共缩物，和/或(vii)由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)在水解条件下制得的反应产物，(viii)和有机溶剂，前提是存在一种摩尔比(i)∶(ii)∶(iii)，其中(i)＝1和(ii)＝0.5－1.5和(iii)＝0.3－1.1。本发明还涉及制造上述组合物的方法及其用途，并涉及利用该组合物制得的包装材料。

主权项

1.用于制造气体阻挡层的有机硅烷基组合物，其包括(i)至少一种有机烷氧基硅烷，其有机官能度显示至少一个不饱和烃基，(ii)至少一种氨基烷基烷氧基硅烷，(iii)至少一种多元醇，(iv)任选地，另一种烷氧基硅烷或烷氧基硅氧烷，和(v)任选地，至少一种纳米或微米级半金属氧化物或金属氧化物，半金属氧化物氢氧化物或金属氧化物氢氧化物，或半金属氢氧化物或金属氢氧化物，和/或(vi)至少一种由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)构成的共缩物，和/或(vii)由组分(i)、(ii)、(iii)和任选(iv)以及任选(v)在水解条件下制得的反应产物，(viii)和有机溶剂，前提是存在一种摩尔比(i)∶(ii)∶(iii)，其中(i)＝1和(ii)＝0.5-1.5，和(iii)＝0.3-1.1。