[发明专利]包含延长纳米级元件的器件及制造方法无效

专利信息
申请号: 200480029859.X 申请日: 2004-09-10
公开(公告)号: CN1868030A 公开(公告)日: 2006-11-22
发明(设计)人: 乔纳斯·拉尔夫·豪普特曼;阿尼·珍森;波尔·埃里克·格雷格斯·汉森·林德罗夫;杰斯波·尼杰拉德;贾纳兹·萨多斯基 申请(专利权)人: 哥本哈根大学
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;C30B25/02;C30B25/18;C30B33/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 钟晶
地址: 丹麦哥*** 国省代码: 丹麦;DK
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摘要: 揭示了包含延长纳米级元件的器件的一种制造方法以及这种器件。此器件包含外延生长层,其中置入例如碳纳米管的延长纳米级元件器件。提供支持外延层的外延生长的基片,将延长纳米级元件置于该基片上并且通过外延层外延地快速生长。该延长纳米级元件由此至少部分地由外延生长层封装。在该层中制备一个或者多个部件,该一个或者多个部件通过平版印刷的方法制备。因此可以提供以碳纳米管作为活性元件的器件。该方法适用于在传统半导体器件和纳米器件之间混合的混合装置。
搜索关键词: 包含 延长 纳米 元件 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种使用至少一个外延层快速生长延长纳米级元件的方法,该方法包括步骤:(a)提供基片,其中此基片或者至少基片的顶层具有支持外延层的外延生长的表面;(b)将延长纳米级元件置于该基片上;(c)用外延层外延地快速生长该基片和延长纳米级元件,并且由此至少部分地将该延长纳米级元件封装到外延生长层中;以及,(d)在该层中制备一个或者多个部件,该一个或者多个部件通过平版印刷的方式制备。
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