[发明专利]确定辐射散射/反射件的位置的系统和方法有效

专利信息
申请号: 200480029811.9 申请日: 2004-09-09
公开(公告)号: CN1867881A 公开(公告)日: 2006-11-22
发明(设计)人: 尤纳斯·奥威·菲利普·埃利亚森;简斯·瓦根布拉斯特·斯图贝·斯特尔加德 申请(专利权)人: O-笔公司
主分类号: G06F3/033 分类号: G06F3/033;G06K11/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李镇江
地址: 丹麦哥*** 国省代码: 丹麦;DK
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摘要: 一种用于确定辐射散射/反射件的位置的方法和系统,其中该辐射发射器设置在辐射入射在其上的辐射透射件的表面上。该入射辐射被该散射/反射件散射/漫射/反射,并被该透射件朝能够确定该元件的位置的检测器导向。
搜索关键词: 确定 辐射 散射 反射 位置 系统 方法
【主权项】:
1、一种用于确定辐射反射/散射件的位置的系统,该系统包括:-辐射透射件或板,具有适合于被反射/散射件接合的第一表面部分和与该第一表面部分相对的第二表面部分,该透射件适合于通过内反射将被反射/散射光引导到检测装置,-用于向该透射件内以及该第一表面部分上提供辐射的装置,-用于检测由该辐射提供装置提供的并且当该反射/散射件在该第一表面部分上的位置处接合该第一表面部分时被该反射/散射件反射/散射的辐射,并输出与辐射的入射角相关的信号的装置,该检测装置包括至少一个至少一维检测器,该检测器包含多个检测件,每个检测件适合于检测辐射并输出相应信号,该检测装置还包括至少一个适合于调制入射在该检测件上的辐射的孔、针孔或透镜,以及-用于根据角信号确定反射/散射件在该第一表面部分上的接合位置的装置。
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