[发明专利]酰胺型甲酰胺衍生物无效

专利信息
申请号: 200480028031.2 申请日: 2004-09-24
公开(公告)号: CN1860097A 公开(公告)日: 2006-11-08
发明(设计)人: 川口隆行;赤塚英则;森本政道;渡边达也;饭岛彻;村上润 申请(专利权)人: 田边制药株式会社
主分类号: C07C237/42 分类号: C07C237/42;C07D213/75;C07D213/81;C07D265/32;C07D333/40;C07D401/12;C07D401/14;C07D403/14;C07D409/12;C07D413/12;C07D495/04;A61K31/381;A61K31/4025
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘维升;黄可峻
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了通式[1]表示的酰胺型甲酰胺衍生物:(其中X是-N=或-CH=;R1是卤素基、低级烷基,等等;R2是例如[化学式2],Y1和Y2相同或不同,且各自为卤素基或选自低级烷基、低级烷氧基等等的基团;环A是苯基等,)或其衍生物药学可接受的盐,其衍生物和盐可用作药物,特别是Fxa抑制剂。
搜索关键词: 酰胺型 甲酰胺 衍生物
【主权项】:
1.式[1]的酰胺型甲酰胺衍生物或其药学可接受的盐:其中X是下式基团:-N=或-CH=;Y1和Y2相同或不同,且各自选自以下基团:氢原子、卤素原子、低级烷基、低级烷氧基、被卤素原子取代的低级烷基、低级烷氧羰基、羧基、低级烷基氨基甲酰基和苯基;R1是氢原子、卤素原子、低级烷基或低级烷氧基;R2是下式的基团:-CO-R21-R22;R21是低级亚烷基或环烷二基;和R22是下式的基团:或其中R23和R24是相同的或不同的,并且各自是任选被低级烷基取代的低级烷基或氨基-低级烷基;或在末端结合,与邻接基团-N-C(=O)-一起形成任选被取代的含氮饱和杂环基团;R25和R26是相同的或不同的,并且各自是任选被低级烷基取代的低级烷基或氨基-低级烷基;或在末端结合,与邻接氮原子一起形成任选被取代的含氮饱和杂环基团;和环A是芳香烃、单环的杂芳香环或稠合噻吩环。
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