[发明专利]过程压力传感器的校准有效

专利信息
申请号: 200480027608.8 申请日: 2004-09-27
公开(公告)号: CN1856700A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 大卫·安德鲁·布罗登;蒂莫西·帕特里克·福格蒂;大卫·尤金·维克隆德;特里·森·比奇;马克·S·舒马赫 申请(专利权)人: 罗斯蒙德公司
主分类号: G01L27/00 分类号: G01L27/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 宋合成
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了一种过程装置(52)的压力传感器(60),其特征在于施加多个压力给所述处理传感器。所述多个压力的输出被接收。补偿关系根据所述压力传感器输出被确定。所述表征数据被收集在所述压力范围内不均匀的分布中。
搜索关键词: 过程 压力传感器 校准
【主权项】:
1、一种表征过程装置的压力传感器的方法,包括:在表征压力范围内将多个压力施加到所述过程装置的压力传感器;接收与所施加的压力有关的来自所述压力传感器的输出;及基于来自所述压力传感器的输出确定补偿关系;其中所施加的不同的压力在所述表征压力范围内不均匀地分布。
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