[发明专利]具有凹陷窗的抛光垫无效
| 申请号: | 200480026762.3 | 申请日: | 2004-09-14 |
| 公开(公告)号: | CN1852788A | 公开(公告)日: | 2006-10-25 |
| 发明(设计)人: | 凯尔·A·特纳;杰弗里·L·比勒;凯利·J·纽厄尔 | 申请(专利权)人: | 卡博特微电子公司 |
| 主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24D13/14 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王允方;刘国伟 |
| 地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种用于化学机械抛光的抛光垫,所述抛光垫包含(a)一第一抛光层(10),其包含一抛光表面(12)和一具有一第一长度和一第一宽度的第一孔隙;(b)一第二层(20),其包含一本体和一具有一第二长度和一第二宽度的第二孔隙,其中所述第二层(20)大体上与所述第一抛光层(10)共同延伸,且所述第一长度和第一宽度中至少一者小于所述第二长度和第二宽度;和(c)一大体上透明的窗部分(30),其中所述透明的窗部分(30)被安置在所述第二层的第二孔隙内以便与所述第一抛光层的第一孔隙对准,且所述透明窗部分(30)通过一间隙(40)与所述第二层的本体相分离。本发明进一步提供一种化学机械抛光装置和抛光工件的方法。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 凹陷 抛光 | ||
【主权项】:
1.一种用于化学机械抛光的抛光垫,其包含:(a)一第一抛光层,其包含一抛光表面和一具有一第一长度和一第一宽度的第一孔隙,(b)一第二层,其包括一本体和一具有一第二长度和一第二宽度的第二孔隙,其中所述第二层大体上与所述第一抛光层共同延伸,且所述第一长度和所述第一宽度中至少一者分别小于所述第二长度和所述第二宽度,和(c)一大体上透明的窗部分,其中所述透明的窗部分安置在所述第二层的所述第二孔隙内,以便与所述第一抛光层的所述第一孔隙对准,且所述透明的窗部分通过一间隙与所述第二层的所述本体相分离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡博特微电子公司,未经卡博特微电子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480026762.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。





