[发明专利]喷司他丁及其前体、类似物和衍生物的合成和制造有效
| 申请号: | 200480026598.6 | 申请日: | 2004-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN1852913A | 公开(公告)日: | 2006-10-25 |
| 发明(设计)人: | P·皮西翁萨;S·雷德卡 | 申请(专利权)人: | 苏伯俭股份有限公司 |
| 主分类号: | C07H19/00 | 分类号: | C07H19/00;C07H19/16;C07H19/22 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 柳春琦 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | 提供用于有效制备和制造喷司他丁的方法和组合物。还提供新型的喷司他丁的前体、喷司他丁类似物和衍生物。在本发明的一个方面,提供一种通过杂环扩大的路线来全化学合成喷司他丁的方法。例如,可以有效地通过次黄嘌呤衍生物或2′-脱氧次黄苷衍生物中的O-C-N官能团的环扩大来获得用于药物如喷司他丁的杂环药物中间体,例如二氮杂酮前体。该方法和组合物还可以用于合成和制造不同于喷司他丁的杂环化合物,特别是药物上重要的杂环化合物。 | ||
| 搜索关键词: | 及其 类似物 衍生物 合成 制造 | ||
【主权项】:
1.一种制备喷司他丁的方法,该方法包括: 提供次黄嘌呤衍生物,其中咪唑仲胺和O-C-N官能团(O=C-NH或 HO-C=N)的至少一种由保护基所保护; 扩大所述次黄嘌呤衍生物的6-元环,以生成具有下式的保护的二氮 杂酮前体: ![]()
或
对保护的二氮杂酮前体进行脱保护,得到具有下式的二氮杂酮前 体8a:
将二氮杂酮前体8a的N-2与2-脱氧-D-核糖或其衍生物的C-1缩 合,得到具有下式9a的中间体:
;和将化合物9a的8-酮基官能团还原,得到喷司他丁, 其中R1和R1′各自独立地为H或保护基,且R3和R3′各自独立地为H或保护基。
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