[发明专利]含有聚酰胺酸的形成防反射膜的组合物有效
| 申请号： | 200480024583.6 | 申请日： | 2004-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1842744A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 畑中真;榎本智之;木村茂雄 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种形成防反射膜的组合物，所述防反射膜是在半导体器件制造的光刻工序中使用的、用于形成可通过光致抗蚀剂用碱性显影液进行显影的防反射膜，还提供一种使用该形成防反射膜的组合物的光致抗蚀剂图形的形成方法。本发明通过提供下述组合物解决了上述课题，即，一种形成防反射膜的组合物，其包含：由四羧酸二酐化合物和具有至少一个羧基的双胺化合物制造出的聚酰胺酸、具有至少2个环氧基的化合物、及溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 聚酰胺 形成 反射 组合 | ||
【主权项】：
1.一种形成防反射膜的组合物，包含具有式(1)(式中，A1表示4价的有机基团，B1表示3价的有机基团)所示的结构的聚酰胺酸、具有至少2个环氧基的化合物、和溶剂，![]()
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