[发明专利]光掩模及保护其光学性能的方法无效
| 申请号： | 200480024538.0 | 申请日： | 2004-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1846174A | 公开（公告）日： | 2006-10-11 |
| 发明（设计）人： | L·迪厄;J·S·戈尔顿;E·V·约翰斯通;C·肖维诺 | 申请（专利权）人： | 凸版光掩膜公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 吴立明;梁永 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种光掩模及保持其光学性能的方法。该方法包括提供衬底，该衬底包括具有形成在其上的吸收层的第一表面、和与第一表面相对设置的第二表面。图案形成在吸收层中，以建立用于半导体制备工艺中的光掩模。透射保护层也形成在构图层和衬底的第二表面中的至少一个上。当光掩模用于半导体制备工艺中时，该保护层降低了雾状物生长。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 保护 光学 性能 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于保持光掩模的光学性能的方法，包括：提供衬底，该衬底包括具有形成在其上的吸收层的第一表面和与第一表面相对设置的第二表面；在吸收层中形成图案以建立可操作用于半导体制备工艺中的光掩模；以及在构图层和衬底的第二表面中的至少一个上形成透射保护层，当光掩模用于半导体制备工艺中时，该保护层可操作用于防止雾状物生长。
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