[发明专利]用于磁光装置的磁头与磁光装置无效

专利信息
申请号: 200480022657.2 申请日: 2004-07-30
公开(公告)号: CN1833281A 公开(公告)日: 2006-09-13
发明(设计)人: H·W·范卡斯特伦;R·J·M·吴勒斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G11B11/105 分类号: G11B11/105
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 原绍辉;杨松龄
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 一种用于磁光装置的磁头包括多个基本上平行的平面层,这些平面层包括至少一个包括由多匝导电绕组形成的线圈的层,这些匝基本上位于由所述层限定的平面中且绕组基本上以垂直于所述平面的中心轴为中心,并且还包括由各向异性磁导材料构成的轭层。轭层包括多个由将轭层分成多个分区的磁导材料构成的段(16),这些分区一起围绕着中心轴。在每个分区中,磁导材料具有位于轭层的平面中的易磁化轴,该易磁化轴的方向不同于相邻分区中的易磁化轴的方向。
搜索关键词: 用于 装置 磁头
【主权项】:
1.一种用于磁光装置的磁头,包括多个基本上平行的平面层(13、15),这些平面层(13、15)包括至少一个包括由多匝(14)导电绕组形成的线圈的层(13),这些匝(14)基本上位于由层(13)限定的平面中且绕组基本上以垂直于平面的中心轴为中心,并且还包括由各向异性磁导材料构成的轭层(15),其中轭层(15)包括多个由将轭层(15)分成多个分区的磁导材料构成的段(16、18、20、22),这些分区一起围绕着中心轴,其中,在每个分区中,磁导材料具有位于轭层的平面中的易磁化轴,该易磁化轴的方向不同于相邻分区中的易磁化轴的方向。
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