[发明专利]用于检查或校准高精度试件的角相关对准的方法有效
申请号: | 200480022078.8 | 申请日: | 2004-07-23 |
公开(公告)号: | CN1829899A | 公开(公告)日: | 2006-09-06 |
发明(设计)人: | 海因茨·利普纳 | 申请(专利权)人: | 莱卡地球系统公开股份有限公司 |
主分类号: | G01C1/02 | 分类号: | G01C1/02;G01C25/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈坚 |
地址: | 瑞士海*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及一种用于检查或校准高精度试件(1)上的基准结构的角相关对准的方法。在将试件(1)设在保持件(3)上之后,进行光学单元(8、8a、8b、8c)和/或试件(1)的基准结构的预对准,使得试件光束(10、10a、10b、10c、10d)至少部分入射到检测器(9)上,并在那里产生至少一个点(12)。通过控制/管理单元(13)对检测器(9)上的至少一个点(12)的位置进行评估。在通过控制/管理单元(13)根据检测器(9)上的至少一个点(12)的位置进行光学单元(8、8a、8b、8c)相对基准结构的相对精细调整,使得至少一个点(12)具有在检测器(9)上的给定位置之后,至少对保持件的转动角和/或测量件的转动角进行记录,由此光束(30、35a、35b、35c、35d)由试件(1)的基准结构产生或关于光束参数修正,具体通过反射、阻挡、过滤或成形,并且所产生或修正的光束(30、35a、35b、35c、35d)形成试件光束(10、10a、10b、10c、10d)。 | ||
搜索关键词: | 用于 检查 校准 高精度 相关 对准 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于检查或校准高精度试件(1)的基准结构的角相关对准的方法,其使用一种设备,该设备包括:·可调整或固定的保持部分(3),用于保持所述试件(1),·可调整的测量部分(5、5a、5b、5c、5d),该测量部分(5、5a、5b、5c、5d)和保持部分(3)可相对彼此围绕保持部分轴线(4)和与所述保持部分轴线(4)成直角相交的测量部分轴线(7)转动,并且可以测量在测量部分(5、5a、5b、5c、5d)与所述保持部分(3)之间的保持部分围绕保持部分轴线(4)的转动角以及所述测量部分围绕所述测量部分轴线(7)的转动角,·光学单元(8、8a、8b、8c),其设在所述测量部分(5、5a、5b、5c、5d)上并具有光学检测器(9),该光学检测器(9)用于接收至少一个与所述试件(1)相互作用的试件光束(10、10a、10b、10c、10d),该光束大致在测量平面(11)中行进,所述测量部分轴线(7)垂直通过所述测量平面且所述保持部分轴线(4)位于该测量平面内,该光束在所述检测器(9)上产生至少一个点(12),以及·控制/管理单元(13),其至少用于通过所述保持部分和所述测量部分的转动轴线的电机动力调整使所述光学单元(8、8a、8b、8c)相对于所述试件(1)的基准结构进行电机动力对准,作为在所述检测器(9)上的所述至少一个点(12)的位置函数,所述方法包括以下方法步骤·将试件(1)设在保持部分(3)上,·进行光学单元(8、8a、8b、8c)和/或试件(1)的基准结构的预对准,使得试件光束(10、10a、10b、10c、10d)至少部分投射到检测器(9)上,并在那里产生至少一个点(12),·由控制/管理单元(13)对检测器(9)上的至少一个点(12)的位置进行评估,·通过控制/管理单元(13)进行光学单元(8、8a、8b、8c)相对于基准结构的相对精细调整,作为检测器(9)上的至少一个点(12)的位置函数,使得该至少一个点(12)到达检测器(9)上的某一基准位置,以及·至少对保持部分的转动角和/或测量部分的转动角进行确定,辐射(30、35a、35b、35c、35d)由试件(1)的基准结构产生或关于辐射参数进行修正,具体通过反射、阻挡、过滤或成形,并且所产生或修正的光束(30、35a、35b、35c、35d)形成试件光束(10、10a、10b、10c、10d)。
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