[发明专利]具有SOI基片的微机电系统的锚固件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200480021278.1 申请日: 2004-03-31
公开(公告)号: CN1826682A 公开(公告)日: 2006-08-30
发明(设计)人: 马库斯·卢茨;阿龙·帕特里奇;西尔维娅·克龙米勒 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L29/82
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 刘兴鹏
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明公开了一种MEMS装置(12)以及制造和加工该MEMS装置(12)的技术,该装置具有机械结构(20a、20b、20c)和用于将机械结构(20a、20b、20c)固定到基片(14)的锚固件(30a、30b、30c)。本发明的所述锚固件(30a、30b、30c)由一种相对不受机械结构(20a、20b、20c)的释放过程影响的材料组成。在这点上,相对于包括锚固件(30a、30b、30c)的材料,对于固定机械结构(20a、20b、20c)的材料而言,刻蚀释放过程被可选或优选的。此外,本发明的锚固件(30a、30b、30c)被固定到基片(14)上,从而使绝缘层的去除对机械结构(20a、20b、20c)在基片(14)上的锚固影响很小到没有影响。
搜索关键词: 具有 soi 微机 系统 锚固 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造机电装置的方法,该装置具有包括固定电极的机械结构,其中该机电装置包括基片、位于所述基片上的绝缘层、以及位于所述绝缘层上的第一半导体层,所述方法包括:去除第一半导体层的第一部分;去除绝缘层的第一部分,从而暴露出一部分基片并形成锚固开口;在锚固开口中沉积一种锚固材料;在锚固材料上方沉积第二半导体层;由位于锚固材料上方的至少第二半导体层形成固定电极,其中所述固定电极通过锚固材料被固定到基片上。
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