[发明专利]光记录介质、及其记录再现方法和装置有效
| 申请号: | 200480019222.2 | 申请日: | 2004-04-26 |
| 公开(公告)号: | CN1816853A | 公开(公告)日: | 2006-08-09 |
| 发明(设计)人: | 岩佐博之;篠塚道明;真贝胜 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
| 主分类号: | G11B7/007 | 分类号: | G11B7/007;G11B7/09;G11B7/24 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 宋莉;杨梧 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种光记录介质,该光记录介质是照射波长λ的激光,通过光强度2值或2值以上的调制进行信息的记录·再现的单面2层记录介质,将第1基板的折射率设为n1、中间层的折射率设为n2、第1信息层的槽深设为d1、槽宽度设为w1、轨道间距设为p1、第2信息的槽深设为d2、槽宽度设为w2、轨道间距设为p2,且满足下列条件:4λ/16n1≤d1≤7λ/16n1 λ/16n2≤d2≤3λ/16n2、或4λ/16n2≤d2≤7λ/16n2 0.2≤w1/p1≤0.55 0.2≤w2/p2≤0.55。 | ||
| 搜索关键词: | 记录 介质 及其 再现 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光记录介质,该光记录介质是,在第1基板和第2基板之间依次设置第1信息层、中间层以及第2信息层,各信息层具有包含有机色素的追记型记录层,且沿记录轨道形成槽,从第1基板入射波长λ的激光,通过光强度的2值或2值以上的调制进行信息的记录再现的单面2层光记录介质,其特征在于,将第1基板的折射率设为n1、中间层的折射率设为n2、第1信息层的槽深设为d1、槽宽度设为w1、轨道间距设为p1、第2信息层的槽深设为d2、槽宽度设为w2、轨道间距设为p2,且满足下列条件:4λ/16n1≤d1≤7λ/16n1 λ/16n2≤d2≤3λ/16n2、或4λ/16n2≤d2≤7λ/16n2 0.2≤w1/p1≤0.550.2≤w2/p2≤0.55。
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