[发明专利]用于抗蚀剂的显影剂组合物以及用于形成抗蚀剂图案的方法有效
| 申请号： | 200480017491.5 | 申请日： | 2004-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1809791A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 鹫尾泰史;斋藤宏二 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其具有高的溶解速率(高显影灵敏度)。所述用于抗蚀剂的显影剂组合物是这样的一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其包括作为主要组分的有机季铵碱和表面活性剂，所述表面活性剂含有通式(I)表示的阴离子表面活性剂，其中R1和R2中的至少一个表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且任何剩余的基团都表示氢原子，或者表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个表示通式(II)所示的基团：－SO3M…(II)，其中M表示金属原子，而且任何剩余的基团都表示氢原子或上述通式(II)所示的基团。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抗蚀剂 显影剂 组合 以及 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其包括作为主要组分的有机季铵碱和表面活性剂，所述表面活性剂含有下面通式(I)表示的阴离子表面活性剂：![]()
其中R1和R2中的至少一个基团表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且任何剩余的基团都表示氢原子，或者表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个基团表示下面通式(II)所示的基团：-SO3M …(II)其中M表示金属原子，而且任何剩余的基团都表示氢原子或上述通式(II)所示的基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480017491.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
