[发明专利]测量杂质的方法和装置

摘要

一种杂质测量装置，包括：在其上放置着断裂表面(h)朝上的样品(S)的工作台(T)；照明装置(7)，其从多个方向用光(L)照射断裂表面(h)；用来检测断裂表面(h)的图像的图像检测装置；用来将所检测图像处理成连续色调图像的连续色调图像处理装置；和用来通过连续色调图像处理结果与阈值之间的比较将连续色调图像二进制化的二进制化装置。由于从多个方向照射断裂表面(h)，通过检测断裂表面(h)的图像所获得的图像没有由断裂表面(h)上的微小不规则性导致的阴影或光学不规则性。因而，所述图像经过连续色调图像处理和二进制化后，样品(S)中的杂质就能被从断裂表面(h)中精确地检测到。

主权项

1、一种杂质测量方法，其特征在于包括步骤：以断裂表面朝上的方式在工作台上布置具有断裂表面的样品；从工作台上方以多个方向用光照射断裂表面；检测用光照射的断裂表面的图像；将所检测的图像处理成连续色调图像；和通过将连续色调图像处理结果与阈值之间相比较来将连续色调图像二进制化。