[发明专利]曝光装置及器件制造方法

摘要

液压静力衬垫(32)和液压静力衬垫(34)保持晶片(W)和其上安置该晶片的台(TB)。液压静力衬垫(32)将轴承表面和晶片(W)之间在投影光学系统(PL)的光轴方向上的距离维持在预定值。另外，因为液压静力衬垫与静压气体轴承不同，液压静力衬垫利用在轴承表面和支撑物体(衬底)之间的不可压缩的流体(液体)的静压，所以轴承的刚度很高而且在轴承表面和衬底之间的距离维持稳定和恒定。此外，液体(如纯水)的粘滞度比气体(如空气)高，在振荡阻尼方面也比气体好。因此，在不一定必须布置焦点位置探测系统的情况下，可以实现转印到晶片(衬底)上的图案基本上没有散焦。

主权项

1.一种曝光装置，该曝光装置用能量束照射图案，并通过投影光学系统将所述图案转印到衬底上，所述曝光装置包括：安置衬底的台，该台能够在保持所述衬底的同时二维移动；和布置在所述投影光学系统的像平面侧上的液压静力轴承单元，所述单元包括至少一个液压静力轴承，所述至少一个液压静力轴承在面对安置在所述台上的所述衬底的轴承表面和所述衬底之间的空间中供给液体，从而通过所述液体的静压维持在所述轴承表面和所述衬底的表面之间的距离。