[发明专利]平面聚合物存储器件有效

专利信息
申请号: 200480015312.4 申请日: 2004-05-11
公开(公告)号: CN1799143A 公开(公告)日: 2006-07-05
发明(设计)人: N·H·特里普沙斯;M·布诺斯基;U·奥科罗阿尼亚吾;S·K·潘格尔 申请(专利权)人: 先进微装置公司
主分类号: H01L27/00 分类号: H01L27/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊;程伟
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种能够作为非易失性存储器件工作的平面聚合物存储器件(100)。能够以两个或更多个电极以及与一个电极相关的电极延伸部分来形成平面聚合物存储器件(100),其中,选择性导电介质及电介质隔离电极。形成平面聚合物存储器件(100)的方法包括以下步骤中的至少一个步骤:形成具有相关的插塞的第一电极(125),形成第二电极(140),在延伸部分之上形成钝化层(130),沉积有机聚合物以及图案化该有机聚合物(115)。该方法可将平面聚合物存储器件集成到半导体工艺中。平面聚合物存储器件(100)可进一步采用薄膜二极管(TFD),以协助编程。TFD可形成在第一电极(125)与选择性导电介质之间或在第二电极(140)与选择性导电介质之间。
搜索关键词: 平面 聚合物 存储 器件
【主权项】:
1.一种平面有机存储器件(100),包含:用以储存信息的有机半导体层(115);与所述有机半导体层(115)配合起作用以协助储存信息的钝化层(130);用以存取所述有机半导体层(115)的第一电极(125)及第二电极(140),而所述有机半导体层(115)位于所述第一电极(125)及所述第二电极(140)之上;所述层至少以下列方式中的一种方式来配置:以水平的方式堆叠,以平行构形配置,在各层间以垂直的方式配置,与至少其它一层呈对角方式配置,以及交叉而使得一层的一部分突出到一个或多个其它层中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进微装置公司,未经先进微装置公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480015312.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top