[发明专利]用于照相平版印刷的半导体纳米尺寸颗粒的应用无效
| 申请号： | 200480012054.4 | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN1799004A | 公开（公告）日： | 2006-07-05 |
| 发明（设计）人： | 陈之昀;E·F·弗利特;G·库珀 | 申请（专利权）人： | 皮瑟莱根特科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/04;G03F7/26;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 韦欣华;李连涛 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 半导体纳米尺寸颗粒具有独特的光学性质，使得它们成为UV照相平版印刷的多种应用的理想候选。在本专利中记载了几个这种应用，包括使用半导体纳米尺寸颗粒或包含半导体纳米尺寸颗粒的材料作为沉浸式平版印刷中高折射性介质，作为光学仪器中的抗反射性涂层，作为平版印刷中的胶片，和作为UV光致抗蚀剂的感光剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 照相 平版印刷 半导体 纳米 尺寸 颗粒 应用 | ||
【主权项】：
1.一种改进照相平版印刷的分辨率的方法，包括结合半导体纳米尺寸颗粒以形成高折射性介质。
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