[发明专利]真空沉积功能化的多孔材料有效
| 申请号： | 200480011126.3 | 申请日： | 2004-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN1791701A | 公开（公告）日： | 2006-06-21 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·G·米哈埃;安盖洛·扬利济斯 | 申请（专利权）人： | 亚利桑那西格玛实验室公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;B05D3/00;B32B3/26;B32B9/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 杨林森;谷惠敏 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在等离子场(20)中预处理多孔基体(12)，并且在真空汽相沉积室(10)中在多孔基体之上立刻闪蒸(22)、沉积并固化(24)功能化的单体。通过明智地控制工艺过程以便所得到的聚合物敷层以不延伸越过材料中的孔隙的超薄层(大约0.02－3.0μm)的方式粘附到单根纤维的表面，多孔基体(12)的多孔性基本未受影响，同时纤维和最终产品获得了希望的功能性。所得到的聚合物层还用于改善金属和陶瓷敷层的粘附力和耐久性。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 沉积 功能 多孔 材料 | ||
【主权项】：
1.一种方法，用于功能化多孔基体以给予该基体以特殊的功能性，同时保持其透过性，所述方法包括以下步骤：(a)在真空室中闪蒸具有所述功能性的单体以产生蒸汽；(b)在多孔基体上冷凝蒸汽以在多孔基体上产生所述单体的膜；以及(c)固化膜以在多孔基体上产生功能化的聚合物层；其中，在将所述聚合物层限制到最大厚度约3.0μm的蒸汽密度和停留时间的条件下执行所述冷凝步骤。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
