[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统

摘要

一种用于控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)中环境的环境系统(26)包括液屏障(254)和浸液系统(252)。液屏障(254)位于器件(30)附近。浸液系统(252)输送充满间隙(246)的浸液(248)。浸液系统(252)收集直接位于液屏障(254)与器件(30)之间的浸液(248)。液屏障(254)可以包括位于器件(30)附近的清除入口(286)，并且浸液系统(252)可以包括与清除入口(286)流体联通的低压源(392A)。液屏障(254)限制浸液(248)的任何蒸汽(249)并且防止它干扰测量系统(22)。另外，环境系统(26)可以包括在液屏障(254)与器件(30)之间引导轴承流体(290C)以相对于器件(30)支撑液屏障(254)的轴承流体源(290B)。

主权项

1.一种用于控制光学组件与器件之间间隙中的环境的环境系统，该器件由器件载物台保持，该环境系统包括：位于器件附近的液屏障；以及浸液系统，其输送充满间隙的浸液，并且收集直接位于液屏障与器件和器件载物台中至少一个之间的浸液。