[发明专利]自由空间配线的制造方法及其制造装置无效

专利信息
申请号: 200480008124.9 申请日: 2004-02-16
公开(公告)号: CN1765007A 公开(公告)日: 2006-04-26
发明(设计)人: 星野隆行;松井真二;近藤和茂 申请(专利权)人: 独立行政法人科学技术振兴机构
主分类号: H01L21/285 分类号: H01L21/285;H01L21/3205;H01L27/04;H01J37/317;B82B3/00;C23C16/46
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 张浩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供一种自由空间配线的制造方法及其制造装置,其能够制造纳米级的自由空间配线。基于预先存储在计算机控制的绘制设备(9)中的三维位置数据以及射束的辐射位置、辐射方向和辐射时间来辐射射束以便利用射束激发反应,使用CVD工艺制造该自由空间配线(3)。
搜索关键词: 自由空间 制造 方法 及其 装置
【主权项】:
1.一种自由空间配线的制造方法,其中通过基于预先存储在计算机控制的绘制设备中的三维位置数据以及射束的辐射位置、辐射方向和辐射时间来辐射射束,以便利用射束激发反应,使用CVD工艺制造该自由空间配线。
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