[发明专利]对光记录介质的试写处理控制方法有效
| 申请号： | 200480006391.2 | 申请日： | 2004-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1759441A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 山本典弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G11B7/0045 | 分类号： | G11B7/0045;G11B7/125 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 邵亚丽;李晓舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 可以总是稳定地进行用于决定最佳记录功率的试写区内的试写处理。通过对于从介质外周侧向介质内周侧的螺旋方向的记录层，从介质内周侧向介质外周侧依次使用试写区的小区域，并对于从介质内周侧向介质外周侧的螺旋方向的记录层，从介质外周侧向介质内周侧依次使用试写区的小区域，对于任何的记录层，都可以不对已经进行了试写的小区域部分(使用完毕部分)进行存取而对成为对象的小区域进行存取从而进行试写处理，并可以稳定伺服控制或地址读取。其结果，对于成为对象的小区域的搜索动作也稳定，从而可以进行稳定的试写处理。 | ||
| 搜索关键词： | 对光 记录 介质 处理 控制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种试写处理控制方法，其特征在于，对于在螺旋状的轨道上具有试写区的光记录介质，以将所述试写区多次分割而设定的小区域为单位多级变化发光功率而进行试写，并在用于最佳发光功率的决定的试写处理时，在所述轨道的螺旋方向从介质外周侧朝向介质内周侧的情况下，从介质内周侧向介质外周侧依次使用所述试写区的小区域来进行试写。
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