[发明专利]稀土类磁铁的制造方法及电镀液有效

专利信息
申请号: 200480005433.0 申请日: 2004-03-04
公开(公告)号: CN1754011A 公开(公告)日: 2006-03-29
发明(设计)人: 坂本健;中山靖之;岩井达洋;山本智实 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: C25D7/00 分类号: C25D7/00;C25D5/14;H01F41/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹雪梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供耐蚀性优良的稀土类磁铁的制造方法及用于该方法的电镀液。在含稀土类元素的磁铁基体上,依次层叠含镍的第1保护膜和含镍及硫的第2保护膜。第1保护膜使用包含镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的镍原子单位浓度为0.3mol/l~0.7mol/l、电导率在80mS/cm以上的第1电镀液进行电镀而形成。因而,可以抑制稀土富集相的洗脱,减少针孔的生成,并且因此提高耐蚀性。
搜索关键词: 稀土 磁铁 制造 方法 电镀
【主权项】:
1.一种稀土类磁铁的制造方法,其特征在于,包含:用含有镍源、导电性盐、pH稳定剂、镍源的浓度以镍原子为单位是0.3mol/l~0.7mol/l,且电导率为80mS/cm以上的第1电镀液,用电镀方法在含稀土类元素的磁铁基体上形成含镍的第1保护膜的工序;以及在第1保护膜上形成含镍及硫的第2保护膜的工序。
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