[发明专利]磁记录介质的制造方法和制造装置无效
| 申请号： | 200480002357.8 | 申请日： | 2004-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN1739144A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | 服部一博;高井充 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/855 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供能高效率制造可以阻止介质的翘起和分割记录要素的磁性能劣化、加工形状偏差并具有良好磁特性的磁记录介质的方法等和制造装置。同时加工被加工体(10)的两面。另外用离子束蚀刻作为连续记录层(20)的干蚀刻方法。在连续记录层(20)的干蚀刻前除去抗蚀剂层(26)。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质的制造方法，是加工在基板两面形成有连续记录层的被加工体并在上述基板两面形成以多个分割记录要素构成的分割记录层的磁记录介质的制造方法，其特征在于，包括：同时加工上述被加工体的两面的加工工序。
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