[发明专利]有时分多重蚀刻工艺中的终点检测有效
| 申请号： | 200480002236.3 | 申请日： | 2004-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN1739185A | 公开（公告）日： | 2006-02-22 |
| 发明（设计）人： | 罗素·韦斯特曼;大卫·J·约翰逊 | 申请（专利权）人： | 美国犹奈克赛斯股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;关兆辉 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过在特征工艺频率处监视工艺的光谱发射的识别区确定时分多重工艺的终点的改进方法。以在时分多重工艺期间使用的材料的预计发射光谱为基础识别区域。以在时分多重工艺中步骤的持续时间为基础确定特征工艺频率。监视光谱的幅度变化表示在时分多重工艺中工艺的终点以及材料层之间的过渡。 | ||
| 搜索关键词： | 时分 多重 蚀刻 工艺 中的 终点 检测 | ||
【主权项】：
1.在等离子体蚀刻工艺中建立终点的方法，该方法包括以下步骤：在真空室中放置衬底；通过等离子体从衬底上蚀刻材料；通过等离子体在衬底上淀积钝化层；进行重复蚀刻步骤和淀积步骤的工艺循环；在受工艺影响的频率处监视等离子体发射强度的变化；根据所述监视步骤停止工艺循环步骤；以及从真空室中除去衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国犹奈克赛斯股份有限公司，未经美国犹奈克赛斯股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480002236.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
