[发明专利]平台装置与曝光装置,以及元件制造方法有效
| 申请号: | 200480001512.4 | 申请日: | 2004-01-26 |
| 公开(公告)号: | CN1717779A | 公开(公告)日: | 2006-01-04 |
| 发明(设计)人: | 柴崎祐一 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
| 主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明是有关于一种平台装置与曝光装置,以及元件制造方法。该平台(RST),是一面浮动于平板的上方一面支撑光栅,并可移动于二维面内的三自由度方向,框状构件是以浮动于平板的上方可移动于二维面内的三自由度方向。在框状构件设置第一定子(1361~1382)、第二定子(1401、1402),在平台设第一可动元件、第二可动元件以与第一定子、第二定子个别协动以产生使平台于二维面内驱动的驱动力。因此,由平台的驱动的反力作用于第一或第二定子,由此反力框状构件大略依照动量守恒定律在二维面内移动。藉此,由平台的移动的反力可大略完全加以消除的同时,不产生包含平台及框状构件系统的重心移动的关系,偏负载亦不会作用在平板。 | ||
| 搜索关键词: | 平台 装置 曝光 以及 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种平台装置,其特征在于其包括:平板;滑块,一面在前述平板的上方浮动一面支撑物体并可以沿前述平板移动于包含第一轴及与前述第一轴直交的第二轴的二维面内的三自由度方向;框状构件,一面在前述平板的上方浮动至少具有前述二维面内的三自由度,并围绕前述滑块;第一驱动机构,包含设在前述框状构件的第一定子、以及与前述第一定子协动以产生使前述滑块于前述第一轴方向驱动的驱动力的第一可动元件;以及第二驱动机构,包含设在前述框状构件的第二定子、以及与前述第二定子协动以产生使前述滑块于前述第二轴方向驱动的驱动力的第二可动元件。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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