[实用新型]观察装置的同轴照明显微镜光学系统无效

专利信息
申请号: 200420114737.8 申请日: 2004-12-24
公开(公告)号: CN2791672Y 公开(公告)日: 2006-06-28
发明(设计)人: 吉小明;徐文东 申请(专利权)人: 上海爱建纳米科技发展有限公司;中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B21/06 分类号: G02B21/06;G01N13/16
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 代理人: 李兰英
地址: 200041上海市武定路*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种观察装置的同轴照明显微镜光学系统,包括同光轴置放的八个成像透镜,以两直角棱镜的两斜平面胶合而成的立方胶合棱镜以及采用科勒照明结构的均匀照明光源。光源聚焦在视场光阑上,视场光阑成像在被探测物上,构成均匀照明。两两透镜胶合成三组双胶合透镜,立方胶合棱镜置放在成像透镜中间,同时又与前后成像透镜以及照明透镜胶合在一起,减少了空气间隙。不仅有利于像差矫正,使像差变小。同时有利于装调,结构紧凑,系统体积小。靠近原子力显微镜探测针尖的第一双胶合透镜可以沿着光轴前后移动,使系统在精调焦时,不影响成像质量。本实用新型光学系统具有长工作距离(大于50mm),大数值孔径(大于0.25),放大倍率5倍以上,成像质量接近衍射极限,畸变小于0.2%的特点。
搜索关键词: 观察 装置 同轴 照明 显微镜 光学系统
【主权项】:
1、一种观察装置的同轴照明显微镜光学系统,包括:自对着原子力显微镜探测针尖的第一透镜开始,与第一透镜同光轴依次置放的第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜和观测面;光源,视场光阑和光陷阱,其特征在于包括:置放在第七透镜与第八透镜之间,中心位于第七透镜和第八透镜光轴上,以第一直角棱镜和第二直角棱镜两斜平面胶合在一起的立方胶合棱镜,立方胶合棱镜的胶合面与第七透镜和第八透镜的光轴成45°角;所说的光源置于从立方胶合棱镜位于第七透镜和第八透镜光轴上的中心与其光轴垂直的方向上,在光源与立方胶合棱镜之间置有聚光透镜;所说的视场光阑置放在聚光透镜与立方胶合棱镜之间的聚光透镜的焦点上;置放在视场光阑与立方胶合棱镜之间的第九透镜,第九透镜的焦点在视场光阑上;所说的第一透镜与第二透镜胶合在一起构成第一双胶合透镜,第四透镜与第五透镜胶合在一起构成第二双胶合透镜,第六透镜与第七透镜胶合在一起构成第三双胶合透镜,第七透镜、第八透镜和第九透镜与立方胶合棱镜胶合在一起;所说的光陷阱置于隔着立方胶合棱镜与第九透镜相反的一面上。
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