[实用新型]一种微纳米颗粒的激光清洗装置无效
| 申请号： | 200420112502.5 | 申请日： | 2004-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN2783534Y | 公开（公告）日： | 2006-05-24 |
| 发明（设计）人： | 淮秀兰;金仁喜;董兆一;王唯威;刘登瀛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院工程热物理研究所 |
| 主分类号： | H01L21/302 | 分类号： | H01L21/302;B08B7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种微纳米颗粒激光清洗装置，包括：一样品台，台面上放置有铂电阻；一激光控制台，连接一激光发生器，该激光发生器的激光对准样品台；一数字示波器，与样品台上的铂电阻连接，并与一计算机相连接。由本实用新型的装置可以有效去除微纳米颗粒，效率高、无二次污染，并且可只对污染区域进行清洗，而且不消耗化学药剂，不污染环境。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 颗粒 激光 清洗 装置 | ||
【主权项】：
1.一种微纳米颗粒激光清洗装置，其特征在于，包括：一样品台，台面上放置有铂电阻；一激光控制台，连接一激光发生器，该激光发生器的激光对准样品台；一数字示波器，与样品台上的铂电阻连接，并与一计算机相连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院工程热物理研究所，未经中国科学院工程热物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200420112502.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：设有挡板的热交换盘管
- 下一篇：缝纫机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
