[实用新型]光学掩模液晶投影彩扩装置无效

专利信息
申请号: 200420081862.3 申请日: 2004-08-16
公开(公告)号: CN2754121Y 公开(公告)日: 2006-01-25
发明(设计)人: 陆祖康;叶子;吴碧珍;倪旭翔 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G03B27/73 分类号: G03B27/73;G03B27/00;G03F7/20
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 韩介梅
地址: 310027浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型的光学掩模液晶投影彩扩装置自上而下依次具有液晶屏、转像透镜、光学掩模板和投影透镜,其中,光学掩模板上具有X方向和Y方向周期排列的透光窗口,每个周期的尺寸为Δx×Δy,等于液晶屏每个像素的成像尺寸,每个透光窗口的尺寸为δx×δy,Δx、Δy分别为δx、δy的整数倍N。液晶屏和光学掩模板处于物像共轭位置,液晶屏和转像透镜及光学掩模板固定成一整体构件,该整体构件与二维微位移器相连。通过二维微位移器使整体构件在X、Y方向作二维平移,实现彩扩过程的分步曝光,使得液晶图像屏的有效像素提高N2倍,并且每个曝光单元之间没有任何曝光重叠或割裂的现象,有效提高了彩扩图像的质量。
搜索关键词: 光学 液晶 投影 彩扩 装置
【主权项】:
1.光学掩模液晶投影彩扩装置,其特征在于该装置自上而下依次具有液晶屏(1)、转像透镜(2)、由X方向和Y方向周期排列的透光窗口(8)组成的光学掩模板(3)和投影透镜(5),其中,液晶屏(1)和光学掩模板(3)处于物像共轭位置,液晶屏(1)和转像透镜(2)及光学掩模板(3)固定成一整体构件(7),该整体构件(7)与二维微位移器(4)相连。
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