[实用新型]内连线错误的改善图案无效
| 申请号： | 200420059243.4 | 申请日： | 2004-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN2708505Y | 公开（公告）日： | 2005-07-06 |
| 发明（设计）人： | 姚志翔;万文恺;黄泰钧;夏劲秋 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/52 | 分类号： | H01L23/52;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 董惠石 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种内连线错误的改善图案。此内连线错误的改善图案应用于金属层/介电层/金属层的结构，在其中一金属层的其他区域加上辅助图案，利用这些辅助物所造成的热应力梯度来集中金属层中的空缺，从而克服了现有技术的缺陷，可有效防止用以连接两金属层的中介插塞底部产生孔洞。 | ||
| 搜索关键词： | 连线 错误 改善 图案 | ||
【主权项】：
1.一种内连线错误的改善图案，其特征在于：该内连线错误的改善图案至少包含：一第一金属层；一第二金属层；一介电层，位于该第一金属层与该第二金属层之间；一第一中介插塞，位于该介电层之中，该第一中介插塞的一端与该第一金属层连接，且该第一中介插塞的另一端与该第二金属层连接；以及至少一辅助图案，连接于该第一金属层，用以分散该第一金属层的空缺，以防止该第一金属层的空缺聚集于该第一中介插塞的底部而形成孔洞。
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