[实用新型]等离子增强热丝化学气相沉积薄膜装置无效
申请号: | 200420053672.0 | 申请日: | 2004-09-13 |
公开(公告)号: | CN2820878Y | 公开(公告)日: | 2006-09-27 |
发明(设计)人: | 石玉龙;闫凤英 | 申请(专利权)人: | 青岛科技大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266042*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种等离子增强热丝法化学气相沉积薄膜的装置,属于化学气相沉积领域。本实用新型结合了等离子化学气相沉积和热丝化学气相沉积的优点,即在等离子化学气相沉积设备的两极之间再加上热丝,提供分解反应气体所需的热能并且还可以加热样品台上的样品,且灯丝上不再直接施加偏压,可提高灯丝的使用寿命。同时,在上电极中央设置进气通孔,气体进入时可以进行预热活化有利于化学反应进行。在上电极下方设置带有均流孔的喷头,使反应气流分布均匀,易得到均匀的膜层。而且喷头内可放置少量掺杂物质达到对薄膜材料进行掺杂的目的。本装置可以使薄膜的沉积工艺有更大的调节范围,适合沉积多种薄膜。 | ||
搜索关键词: | 等离子 增强 化学 沉积 薄膜 装置 | ||
【主权项】:
1、一种等离子增强热丝化学气相沉积薄膜装置,其特征在于:上、下电极可与直流电源,或脉冲电源,或射频电源的两极相连。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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