[实用新型]半导体组件无效
申请号: | 200420050741.2 | 申请日: | 2004-05-08 |
公开(公告)号: | CN2718786Y | 公开(公告)日: | 2005-08-17 |
发明(设计)人: | 杨育佳;杨富量;胡正明 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王一斌 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型是关于一种半导体组件,其结构包括:一累积模式(accumulation mode)多重闸晶体管,其中上述累积模式多重闸晶体管包括:至少一半导体鳍部,位于一绝缘层上,其中该半导体鳍部分别含有具有第一掺杂类型之一源极、一汲极以及一沟道区;一闸介电层,位于上述沟道区上;以及一多重闸电极,于上述闸介电层上。 | ||
搜索关键词: | 半导体 组件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体组件,其特征是包括:一累积模式多重闸晶体管,其中该累积模式多重闸晶体管包括:至少一半导体鳍部,位于一绝缘层上,其中该半导体鳍部分别含有具有第一掺杂类型的一源极、一漏极以及一沟道区;一闸介电层,位于该沟道区上;以及一多重闸电极,于该闸介电层上。
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