[实用新型]一种ZnO基透明薄膜晶体管无效
| 申请号: | 200420021599.9 | 申请日: | 2004-03-31 |
| 公开(公告)号: | CN2731722Y | 公开(公告)日: | 2005-10-05 |
| 发明(设计)人: | 叶志镇;袁国栋;朱丽萍;钱庆 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
| 主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L33/00 |
| 代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 | 代理人: | 陈祯祥 |
| 地址: | 310027浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型涉及一种ZnO基薄膜晶体管。玻璃衬底上沉积一层约50-150nm厚的n-ZnO薄膜作为该薄膜晶体管的沟道,ATO薄膜作为栅绝缘层,源极、栅极、漏极均采用ITO薄膜。这种透明的薄膜晶体管在可见光区域的透光率可达到80%以上,跟传统的Si薄膜晶体管相比,能防止因入射光而在薄膜晶体管的源极和漏极之间产生光电子漏电流从而导致薄膜晶体管的关态电流上升,可减少可见光对其工作状态的影响。该薄膜晶体管制作工艺简单,成本低,适合应用于有源矩阵液晶显示器件等领域。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 zno 透明 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
1、一种薄膜晶体管,包括衬底、构道、栅极、源极、漏极和栅绝缘层,其特征是衬底(1)采用玻璃或蓝宝石,沟道(2)为n-ZnO薄膜,栅极(5)、源极(3)、漏极(6)为ITO薄膜,栅绝缘层(4)采用ATO薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200420021599.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类





