[发明专利]带有二维自然散射出光面的LED芯片的制备方法有效
申请号: | 200410101833.3 | 申请日: | 2004-12-27 |
公开(公告)号: | CN1797795A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
发明(设计)人: | 于彤军;秦志新;胡晓东;陈志忠;杨志坚;童玉珍;康香宁;陆羽;张国义 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 俞达成 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提出了一种基于激光剥离技术和倒封装技术,在外延生长时将具有良好光导出效果的二维散射出光面,在外延生长阶段自然地形成于LED结构之上,而获得具有较高的光功率的发光二极管的制备方法。通过控制这种二维散射出光面的微观尺寸,在n型区表面获得较高载流子浓度,从而形成良好的欧姆接触,对垂直结构的LED的特性的改善具有重要的意义。位于衬底与GaN外延层界面处二维散射出光面,还可以在激光剥离过程中降低GaN和蓝宝石衬底界面处由于激光辐照而产生的应力,减少剥离过程中的损伤,减少剥离前后LED的发光光谱因应力变化而发生移动,以保证剥离衬底而获得高性能的LED。 | ||
搜索关键词: | 带有 二维 自然 散射 光面 led 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种带有二维自然散射出光面的LED芯片的制备方法,具体包括以下步骤:1)在蓝宝石衬底上进行网格状沟槽刻蚀;2)在带有网状沟槽的衬底上依次生长n型GaN、LED有源层、p型GaN,外延片还要进行常规的P型激活退火;3)在p-GaN上制备电极和反射层,采用多层金属复合结构;4)将上述带有P电极LED外延片键合在Si或Cu支撑衬底上,放置在真空室中抽走胶中气泡;5)激光剥离去除蓝宝石衬底;6)在n-GaN面上完成n电极制备;7)减薄、划片,制备成垂直电极结构的LED芯片。
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