[发明专利]一种避免GH169合金缺口敏感的技术无效

专利信息
申请号: 200410100965.4 申请日: 2004-12-11
公开(公告)号: CN1621539A 公开(公告)日: 2005-06-01
发明(设计)人: 蔡大勇;刘文昌;姚枚 申请(专利权)人: 燕山大学
主分类号: C21D7/06 分类号: C21D7/06
代理公司: 秦皇岛市维信专利事务所 代理人: 鄂长林
地址: 066004河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及一种应用于GH169合金热加工过程的喷丸处理方法。为了避免GH169合金缺口敏感的发生,在最终常规双时效前,采用X射线衍射(XRD)定量相分析方法测定合金中δ相的含量;如果δ相含量低于0.62wt%,则对合金的热加工工艺过程增加一道高强喷丸处理工艺,然后进行双时效处理。GH169合金的喷丸层为典型的剧烈塑性变形组织,在喷丸后的双时效过程中,该喷丸形变层的时效行为必然与基体不同,形变不但促进了析出相的析出,而且促进了γ″向δ相的转变,最终将使合金表层的δ相含量高于发生缺口敏感的临界值,从而避免缺口敏感的发生。
搜索关键词: 一种 避免 gh169 合金 缺口 敏感 技术
【主权项】:
1.一种避免GH169合金缺口敏感的技术,其特征在于:a.为了避免GH169合金缺口敏感的发生,首先,在最终常规双时效前,采用X射线衍射定量相分析方法测定合金中δ相的含量;b.如果δ相含量低于0.62wt%,则对合金的热加工工艺过程增加一道高强喷丸处理工艺,然后进行双时效处理;c.喷丸处理采用组合式高强喷丸工艺,首先喷钢丸,丸粒直径0.8mm,喷丸强度0.30-0.40fII(A);然后喷玻璃丸,丸粒直径0.2mm,喷丸强度0.10-0.20fII(A);d.喷丸处理后,再进行常规双时效处理。
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