[发明专利]偏光膜的制法、偏振片的制法和光学叠层体的制法有效
| 申请号： | 200410100387.4 | 申请日： | 2004-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN1627107A | 公开（公告）日： | 2005-06-15 |
| 发明（设计）人： | 网谷圭二;藤本清二;松元浩二;山根尚德 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 郭煜;庞立志 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供表面状态良好、染色不匀少的偏光膜的制造方法、使用该偏光膜的偏振片的制造方法以及光学叠层体的制造方法。本发明的偏光膜的制造方法，是在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸的偏光膜的制造方法，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 制法 偏振 光学 叠层体 | ||
【主权项】：
1.一种偏光膜的制造方法，其在按膨润处理、染色处理和硼酸处理的顺序处理聚乙烯醇系膜的工序之前和/或工序中进行单轴拉伸，其特征在于，在硼酸处理工序以前设置2段以上的染色浴依次进行染色，与此同时使最后的染色浴含有硼酸。
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