[发明专利]用光化学处理提供巨磁阻研磨板组织形成物的方法和设备无效
| 申请号： | 200410095173.2 | 申请日： | 2004-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1644320A | 公开（公告）日： | 2005-07-27 |
| 发明（设计）人： | N·马哈德;N·特鲁昂;W·乔塞;K·奇安格 | 申请（专利权）人： | 新科实业有限公司 |
| 主分类号： | B24D18/00 | 分类号： | B24D18/00;G11B5/127;B24D7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范赤;赵苏林 |
| 地址： | 香港葵涌葵芳*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | 描述了一种制造研磨板的系统和方法。在一个例子中，研磨板是由在锡锑板上覆盖光致抗蚀剂并用穿过金属丝网掩模的UV光线曝光先前得到的光致抗蚀剂层制成的。在显影后，未被蚀刻的区域可以被作为填充金刚石的平台区域。该方法可以使研磨板上的人造物更少和金刚石微粒的尺寸更小，其结果是更好地加工读/写头，特别是GMR头。 | ||
| 搜索关键词： | 用光 化学 处理 提供 磁阻 研磨 组织 形成 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种制造研磨板的方法，其包括：选择性地蚀刻一块金属板；和将金刚石微粒嵌入所述金属板中。
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