[发明专利]等离子显示器之寻址电极与导电结构的形成方法无效
| 申请号： | 200410091581.0 | 申请日： | 2004-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1779885A | 公开（公告）日： | 2006-05-31 |
| 发明（设计）人： | 林志光 | 申请（专利权）人： | 中华映管股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/02 | 分类号： | H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高翔 |
| 地址： | 台湾省台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种等离子显示器之寻址电极的形成方法，该方法先进行网版印刷工艺，以在基板上形成相互平行的多条导电图案，然后再图案化这些导电图案，以于基板上形成多条寻址电极。此方法可减少图案形成工艺中所消耗的材料量，以便于节省制造成本。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 显示器 寻址 电极 导电 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种等离子显示器之寻址电极的形成方法，其特征是包括：提供感光导电材料；进行网板印刷工艺，以于基板上形成相互平行之多条导电图案；提供光罩，该光罩具有相互平行之多条透光图案；将该光罩设置于该基板上方，以使该光罩之每一上述这些透光图案位于上述这些导电图案中的一个的上方，其中每一上述这些透光图案之线宽小于对应之上述这些导电图案中的一个的线宽；以及以该光罩为掩膜对上述这些导电图案进行显微照相工艺，以于该基板上形成多条寻址电极。
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