[发明专利]激光掩模及使用它的结晶方法有效
| 申请号： | 200410091185.8 | 申请日： | 2004-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN1637483A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 俞载成 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G02F1/136;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 祁建国;徐金国 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种采用掩模的结晶方法，包括提供一个具有半导体层的基板；将一个掩模定位在基板上面，该掩模具有第一，第二和第三块，每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，第一块的周期性图形具有第一位置，第二块的周期性图形具有第二位置，第三块的周期性图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同；并且通过掩模用激光束照射半导体层使其结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 使用 结晶 方法 | ||
【主权项】：
1.一种激光掩模，具有第一，第二和第三块，每一块具有包括多个透射区和一个遮挡区的周期性图形，第一块的周期性图形具有第一位置，第二块的周期性图形具有第二位置，第三块的周期性图形具有第三位置，第一，第二和第三位置彼此不同。
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