[发明专利]电光装置、电光装置用基板及制造方法、曝光掩模及电子设备

摘要

本发明可藉助简易制造工序得到具有良好的光散射效果的反射层。本发明的曝光用掩模7a用于将膜体51的被加工区域511制作成为粗糙面的曝光处理中。此曝光用掩模7a具有第一区域71和第二区域72。其中第一区域71用作使射向被加工区域511的周边的光透射的透光部81。另一方面，第二区域72，在包含分别设置遮蔽射向被加工区域511的光的遮光部84的多个点区域721的同时，在点区域721以外的区域设置以低于透光部81的光透射率使射向被加工区域511的光透射的半透射部86。

主权项

1.一种曝光用掩模，在用来使膜体中被加工区域成为粗糙面的曝光处理中使用的此掩模包括：具有使射向上述被加工区域的周边的光透射的透光部的第一区域；和具有分别设置的遮蔽射向上述被加工区域的光的遮光部的多个点区域，并且在上述各点区域以外的区域设置有以比上述透光部低的光透射率使射向上述被加工区域的光透射的半透射部的第二区域。